电子陶瓷高温烧结炉 纳米材料箱式气氛炉 主要用于高性能电子陶瓷（如MLCC、压电陶瓷）及纳米材料（如ZnO、TiO₂）的烧结与热处理，可在惰性（N₂/Ar）、还原性（H₂）或真空环境中，确保材料致密化、晶粒均匀生长及性能优化。适用于科研、小批量生产，广泛应用于电子元器件、传感器、半导体等领域。

锂电正负极材料烧结炉 铜粉还原炉 实验电炉 主要适用于高温处理正极（如LFP、NCM）和负极（石墨、硅碳）材料，优化电化学性能，也适用于‌铜粉还原，通过氢气还原氧化铜制备高纯铜粉，用于导电材料。

石英管管式炉 金属氧化物还原炉 小型实验炉 主要用于通过还原反应（如氢气、一氧化碳）将金属氧化物转化为纯金属或功能材料。其核心用途包括：工业冶炼（如铁矿石还原）、高纯金属制备（如钨、钼）、催化剂生产、电子材料加工（如半导体硅提纯）及废料回收。具备温控准和气氛调节能力，适用于实验室研究与规模化生产。

箱式真空炉 氮气保护循环往复烧结炉 实验炉 主要用于粉末冶金、陶瓷等材料高温处理的工业设备。其核心功能是在氮气惰性气氛保护下，通过往复运动实现物料的均匀烧结，防止材料氧化。该设备具有气氛稳定、节能等特点，广泛应用于硬质合金、磁性材料、电子陶瓷等领域，能显著提升产品致密度和机械性能。

连续式回转炉 氧化铜烧结回转窑的工作原理基于法拉第电磁感应定律和焦耳-楞次定律。当金属在感应线圈内处于变化的磁场中时，会在金属内部产生感应电流，这种电流在金属内部自成回路并呈涡旋状，由于整块金属电阻极小，涡流常常很强，瞬间释放出大量的热量，从而实现加热效果‌。